FBI: Nhà khoa học Trung Quốc trốn trong Lãnh sự quán để tránh bị bắt
VOV.VN - FBI cáo buộc 1 nhà nghiên cứu sinh học Trung Quốc đã trốn lệnh bắt giữ vì gian lận visa bằng cách “cố thủ” trong lãnh sự quán nước này ở San Francisco.
Căng thẳng giữa Mỹ và Trung Quốc tiếp tục leo thang sau khi Washington yêu cầu đóng cửa Lãnh sự quán Trung Quốc tại Houston giữa bối cảnh các công tố viên liên bang thông báo họ đang tìm kiếm một nhà khoa học bị cáo buộc gian lận visa, người mà họ cho rằng đã trốn trong Lãnh sự quán Trung Quốc ở San Francisco.
Ảnh minh họa: Reuters
Các công tố viên cáo buộc Tang Juan, một nhà nghiên cứu về sinh học đã nói dối rằng cô không có liên hệ với quân đội Trung Quốc để nhập cảnh vào Mỹ và tránh bị bắt bằng cách trốn trong cơ quan ngoại giao này.
Theo hồ sơ tòa án, cô Tang bị buộc tội ngày 26/6 về việc gian lận visa. Các công tố viên cho biết, Tang đã che giấu mối liên hệ của cô với quân đội Trung Quốc trong đơn xin cấp thị thực song các điều tra viên đã "phát hiện ra những bức ảnh cô mặc quân phục của Quân đội Giải phóng Nhân dân Trung Quốc (PLA)" và việc cô từng là nhà nghiên cứu của Đại học Quân Y thứ 4 (FMMU)
Trong cuộc trả lời phỏng vấn với Cục Tình báo Liên bang Mỹ (FBI) ngày 20/6, "Tang phủ nhận về việc hoạt động trong quân đội Trung Quốc, khẳng định rằng cô không biết ý nghĩa phù hiệu trên bộ đồng phục của cô và rằng, việc mặc quân phục là quy định khi đến FMMU bởi vì đây là trường quân đội", hồ sơ tòa án ngày 20/6 cho biết.
Tuy nhiên, khi khám xét chỗ ở của nhà nghiên cứu này và các thiết bị điện tử, các cơ quan của FBI cho biết họ đã tìm kiếm thêm được những bằng chứng về sự liên hệ của Tang với Quân đội Giải phóng Nhân dân Trung Quốc.
Sau cuộc phỏng vấn với FBI, Tang được cho là đã tới Lãnh sự quán Trung Quốc ở San Francisco, "nơi mà FBI đánh giá là cô vẫn còn ở đó".
Các nhà quan sát đang lo ngại mối quan hệ tiếp tục xấu đi giữa 2 nền kinh tế lớn nhất thế giới và cảnh báo căng thẳng về ngoại giao giữa 2 bên có thể leo thang nhanh chóng sau một loạt diễn biến thời gian gần đây./.
